AMD Veni ce 处理器流片，开启高性能计算新篇章

2025-06-03

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AMD 近日宣布其第六代 AMD EPYC（霄龙）处理器 “Veni ce” 实现流片，成为首个采用台积电先进 2nm（N2）制程技术的高效能运算（HPC）产品。流片是芯片生产的关键里程碑，标志着芯片设计已完成并开始制造，Veni ce 的流片成功表明其核心部件已通过基本功能测试和验证。
AMD 董事长兼 CEO 苏姿丰在近日访问了其最大合作伙伴台积电，并与台积电董事长兼总裁魏哲家共同手持 Veni ce CCD 宣布这一里程碑事件。Veni ce 预计将在 2026 年如期上市，有望早于传统使用台积电最新节点用户的苹果，这一举措也展现了 AMD 在技术创新和产品推出速度上的领先地位。
台积电的 N2 制程作为首个依赖全环绕栅极（GAA）纳米片晶体管的工艺技术，在恒定电压下可显著降低功耗并提高性能。与上一代 N3（3nm 级）相比，晶体管密度提高 1.15 倍。AMD 作为台积电 N2 制程以及台积电亚利桑那州晶圆 21 厂的首位 HPC 客户，充分展现了双方紧密合作推动创新的能力，为未来运算注入强大动力。
在 AMD 宣布 Veni ce 流片消息之前，Intel 基于其 18A 工艺打造的下一代至强 Clearwater Forest 处理器已推迟到明年上半年发布。这一推迟进一步凸显了 AMD 在高性能计算市场的竞争力优势。
此外，AMD 还宣布第五代 AMD EPYC CPU 已在亚利桑那州凤凰城附近的 Fab 21 工厂成功启用和验证，未来可以在美国生产，这不仅增强了 AMD 的生产能力，也为其在高性能计算市场的进一步发展提供了坚实的基础。
苏姿丰在台大演讲中分享了她的个人经历和对半导体产业的看法。她表示，自己与 NVIDIA 创始人黄仁勋虽然存在亲戚关系，但两人各自经营公司，共同作为半导体产业的一员，在美国半导体产业协会里交换想法。苏姿丰还谈到了家庭对她早期生活和职业生涯的影响，强调了教育的重要性以及父母的坚持对她取得今天成就的重要作用。
在被问及天赋与努力的重要性时，苏姿丰谦虚地表示自己只是一个普通的学生，但强调了把学到的东西应用到现实世界中的重要性，这也正是她在 AMD 不断推动技术创新和产品发展的重要理念之一。
AMD Veni ce 处理器的流片成功，不仅标志着 AMD 在高性能计算领域的又一重要里程碑，也预示着未来高性能计算市场的竞争将更加激烈。随着台积电 N2 制程技术的应用，AMD 将继续引领高性能计算的创新和发展，为用户提供沉浸式计算体验。


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